高純金中雜質(zhì)元素含量檢測(cè)儀

摘要：高純金純度管控離不開(kāi)精準(zhǔn)的雜質(zhì)元素分析，GB/T25934.1-2010《高純金化學(xué)分析方法 第 1 部分：乙酸乙酯萃取分離-ICP-AES 法測(cè)定雜質(zhì)元素的含量》是國(guó)內(nèi) 99.999% 高純金雜質(zhì)檢測(cè)重要國(guó)家標(biāo)準(zhǔn)。深圳市天創(chuàng)美科技有限公司 MICS 全譜直讀電感耦合等離子體發(fā)射光譜儀（ICP-OES），可匹配該標(biāo)準(zhǔn)乙酸乙酯萃取前處理流程，完成銀、鋁、砷、鉍、鎘、鉻、銅、鐵、銥、鎂、錳、鎳、鉛、鈀、鉑、銠、銻、硒、碲、鈦、鋅等多類(lèi)痕量雜質(zhì)元素定量檢測(cè)，滿足黃金冶煉、貴金屬質(zhì)檢、有色金屬實(shí)驗(yàn)室高純金樣品分析需求。

一、高純金雜質(zhì)檢測(cè)行業(yè)背景

高純金廣泛應(yīng)用于電子半導(dǎo)體、貴金屬精煉、造幣、新材料等領(lǐng)域，材料品質(zhì)直接由雜質(zhì)元素含量決定，99.999% 高純金需要對(duì)二十余種痕量雜質(zhì)開(kāi)展精準(zhǔn)測(cè)定。GB/T25934.1-2010 標(biāo)準(zhǔn)采用混合酸溶解試樣，鹽酸介質(zhì)下乙酸乙酯萃取分離基體金，水相濃縮后使用 ICP 光譜設(shè)備測(cè)定雜質(zhì)元素譜線強(qiáng)度，以此計(jì)算各雜質(zhì)元素質(zhì)量分?jǐn)?shù)，測(cè)定范圍覆蓋 0.00002%-0.00100% 區(qū)間多元素。

該標(biāo)準(zhǔn)對(duì)儀器的檢出限、光譜分辨率、長(zhǎng)期穩(wěn)定性、多元素同步檢測(cè)能力提出較高要求。傳統(tǒng)設(shè)備容易出現(xiàn)光譜干擾、檢出限不足、維護(hù)繁瑣等問(wèn)題，難以穩(wěn)定滿足高純金痕量雜質(zhì)分析。MICS 全譜直讀 ICP-OES 針對(duì)無(wú)機(jī)痕量元素分析場(chǎng)景開(kāi)發(fā)，能夠很好適配乙酸乙酯萃取分離前處理后的高純金待測(cè)液測(cè)試，助力實(shí)驗(yàn)室落實(shí)國(guó)標(biāo)檢測(cè)流程。

二、MICS 全譜直讀型 ICP-OES 產(chǎn)品概述

ICP-OES MICS 觀測(cè)全譜直讀型電感耦合等離子體發(fā)射光譜儀，是深圳市天創(chuàng)美科技有限公司廠家直供的依托多年光譜儀器研發(fā)積淀推出新一代 ICP-OES 產(chǎn)品。設(shè)備搭載集成固態(tài)射頻電源、恒溫二維分光系統(tǒng)、科研級(jí)制冷防溢出 CCD 檢測(cè)系統(tǒng)，配套自研光譜校正技術(shù)，實(shí)現(xiàn)小型化、便捷化、智能化的光譜分析，日常操作與維護(hù)簡(jiǎn)單，適配各類(lèi)理化實(shí)驗(yàn)室分析作業(yè)。

ICP-OES（電感耦合等離子體發(fā)射光譜儀）作為無(wú)機(jī)元素分析主流儀器，具備光譜干擾小、分析速度快、穩(wěn)定性優(yōu)異的特點(diǎn)，可完成樣品元素定性、半定量、精確定量，檢出限可達(dá)十億分之一級(jí)別。儀器應(yīng)用場(chǎng)景覆蓋環(huán)境保護(hù)、食品安全、地質(zhì)礦產(chǎn)、冶金有色金屬、稀土、化工、醫(yī)藥、石油、半導(dǎo)體、農(nóng)業(yè)研究，可測(cè)定樣品中常量、微量、痕量元素含量。

在貴金屬檢測(cè)領(lǐng)域，儀器配合乙酸乙酯萃取分離前處理，可直接用于高純金樣品中 Ag、Al、As、Bi、Cd、Cr、Cu、Fe、Ir、Mg、Mn、Ni、Pb、Pd、Pt、Rh、Sb、Se、Te、Ti、Zn 共 21 種雜質(zhì)元素檢測(cè)，匹配 GB/T25934.1-2010 標(biāo)準(zhǔn)測(cè)試要求。

三、儀器核心性能特點(diǎn)

1、等離子體系統(tǒng)安全智能，保障高純樣品穩(wěn)定測(cè)試

1）安全可靠固態(tài)射頻電源：體積小巧，輸出效率高，功率輸出穩(wěn)定，集成水路、氣路、過(guò)載多重安全保護(hù)，降低儀器故障概率，提升設(shè)備運(yùn)行安全性。 2）全自動(dòng)點(diǎn)火及自動(dòng)匹配技術(shù)：軟件一鍵全自動(dòng)點(diǎn)火，參數(shù)自動(dòng)調(diào)整匹配，點(diǎn)火成功率高，簡(jiǎn)化實(shí)驗(yàn)操作。 3）智能化火焰監(jiān)測(cè)：配置高靈敏度光纖傳感器，實(shí)時(shí)監(jiān)控等離子火焰狀態(tài)，異常熄火自動(dòng)關(guān)停儀器；搭載全彩色等離子攝像系統(tǒng)，軟件端可視化觀察等離子體運(yùn)行狀態(tài)，可直觀查看炬管、中心管結(jié)垢情況，便于及時(shí)維護(hù)。

2、分離式進(jìn)樣系統(tǒng)，適配萃取后復(fù)雜基體試液

采用霧室-炬管分體式分離進(jìn)樣架構(gòu)，規(guī)避炬管高溫對(duì)霧化效率帶來(lái)的波動(dòng)影響；加長(zhǎng)型霧室強(qiáng)化氣液分離，降低水蒸氣干擾。配備十五轉(zhuǎn)子五通道全自動(dòng)蠕動(dòng)泵，轉(zhuǎn)速連續(xù)可調(diào)，支持在線樣品稀釋、在線添加內(nèi)標(biāo)，滿足高純金萃取后試液特殊分析需求。 炬管支持快速拆卸，配套工裝工具實(shí)現(xiàn)一秒炬管定位，保障炬管與線圈同心位置，消除更換炬管帶來(lái)的信號(hào)偏移；可按需選配有機(jī)、高鹽、耐 HF 酸霧化器、霧室組件，適配各類(lèi)貴金屬前處理樣品。 氣路采用高精度 MFC 質(zhì)量流量控制器，等離子氣、輔助氣、載氣精準(zhǔn)可控，保障測(cè)試數(shù)據(jù)重復(fù)性；具備缺氣報(bào)警保護(hù)，氣源耗盡自動(dòng)熄火，蜂鳴告警保護(hù)硬件。

3、精密恒溫光學(xué)系統(tǒng)，降低高純痕量測(cè)試背景干擾

采用中階梯光柵 + 棱鏡交叉色散二維分光結(jié)構(gòu)，光學(xué)部件無(wú)移動(dòng)構(gòu)件，光室恒溫 36℃±0.1℃密封控溫，氬氣吹掃，大幅提升光學(xué)系統(tǒng)長(zhǎng)期穩(wěn)定性。光路焦距 440mm，全反射成像，波長(zhǎng)覆蓋 165-900nm 全波段；雜散光控制優(yōu)異，200nm 處光學(xué)分辨率≤0.007nm，有效降低高純金痕量雜質(zhì)檢測(cè)背景噪聲。 開(kāi)機(jī)軟件自動(dòng)完成波長(zhǎng)校正，無(wú)需專(zhuān)門(mén)校正溶液，減少人為操作誤差，適合大批量高純金樣品分析。

4、科研級(jí)防溢出 CCD 檢測(cè)器，高低含量元素同步測(cè)量

自主研發(fā)百萬(wàn)像素級(jí)三級(jí)半導(dǎo)體制冷 CCD 檢測(cè)器，制冷溫度-45℃，啟動(dòng)時(shí)間小于 3 分鐘。像素級(jí)背泄式防溢出保護(hù)，消除譜線飽和溢出問(wèn)題，解決高純基體下高低濃度元素同時(shí)測(cè)定難題。檢測(cè)器無(wú)化學(xué)涂膜，規(guī)避涂層老化損耗，延長(zhǎng)檢測(cè)器使用壽命。信號(hào)-背景同步智能積分，拓寬動(dòng)態(tài)范圍，高低含量雜質(zhì)元素可一次曝光同時(shí)采集。

5、功能完備分析軟件，滿足國(guó)標(biāo)分析數(shù)據(jù)處理需求

圖形化可視化操作界面，支持定性、半定量、定量全套分析模式；內(nèi)置 75000 條以上譜線庫(kù)，可自由挑選分析譜線，完整全譜采集，便于排查光譜干擾。集成外標(biāo)法、內(nèi)標(biāo)法、IEC 干擾校正系數(shù)法、標(biāo)準(zhǔn)加入法，適配 GB/T25934.1 標(biāo)準(zhǔn)工作曲線繪制、空白扣除、雜質(zhì)元素結(jié)果計(jì)算。 具備儀器全部件狀態(tài)監(jiān)控、等離子視頻監(jiān)控；可選審計(jì)追蹤、多級(jí)用戶權(quán)限、操作日志記錄，測(cè)試結(jié)果支持局域網(wǎng)自動(dòng)上傳至指定電腦，適合第三方檢測(cè)、質(zhì)檢實(shí)驗(yàn)室規(guī)范化管理。

四、MICS 全譜直讀 ICP-OES 關(guān)鍵技術(shù)指標(biāo)

1、進(jìn)樣系統(tǒng)

· 加長(zhǎng)型霧室，低記憶效應(yīng)，降低背景噪聲；高效同心圓霧化器，霧化效率高，記憶效應(yīng)弱；

· 快速拆卸炬管，工裝輔助一秒定位；5 通道 16 滾軸全自動(dòng)蠕動(dòng)泵，支持進(jìn)樣、排廢、在線內(nèi)標(biāo)同步運(yùn)行；

· 分腔體式進(jìn)樣系統(tǒng)，炬管、霧室物理隔離，實(shí)時(shí)觀察進(jìn)樣狀態(tài)；多類(lèi)型*組件可選，適配有機(jī)、高鹽、耐樣品；

· 多路氣體采用 MFC 質(zhì)量流量控制器，精度 0.01L/min；缺氣自動(dòng)熄火蜂鳴報(bào)警；火焰視頻可視化監(jiān)測(cè)。

2、等離子體系統(tǒng)

· 垂直炬管觀測(cè)方式；全數(shù)字固態(tài)射頻電源，功率 500-1600W，1W 連續(xù)可調(diào)，功率穩(wěn)定性≤0.01%；

· 自動(dòng)調(diào)諧快速匹配，水冷散熱；具備智能濃度衰減，最高衰減 100 倍，寬濃度梯度樣品無(wú)需手動(dòng)稀釋?zhuān)?/span>

· 射頻頻率＞27.12MHz，頻率穩(wěn)定性≤0.01%。

3、光學(xué)系統(tǒng)

· 中階梯光柵-棱鏡交叉色散，無(wú)光機(jī)移動(dòng)部件；密封恒溫光室 36℃±0.1℃，氬氣吹掃；

· 焦距 440mm 全反射光路，波長(zhǎng)范圍 165-900nm；點(diǎn)火自動(dòng)譜線校正；

· 雜散光≤2.0mg/L（10000mg/L Ca 溶液 As 188.980nm 測(cè)定）；200nm 光學(xué)分辨率≤0.007nm。

4、檢測(cè)系統(tǒng)

· 三級(jí) TEC 半導(dǎo)體制冷 CCD 檢測(cè)器，制冷-45℃，啟動(dòng)＜3min；像素級(jí)背泄防溢出；

· 信號(hào)背景同步采集，寬動(dòng)態(tài)范圍；檢測(cè)器無(wú)化學(xué)涂膜；百萬(wàn)像素以上。

5、整機(jī)性能指標(biāo)

· 分析速度：每分鐘≥50 個(gè)元素 / 譜線，單次曝光可同時(shí)測(cè)量近 70 種元素；

· 樣品消耗量＜2mL；線性動(dòng)態(tài)范圍≥10?；支持內(nèi)標(biāo)同步曝光校正；

· 精密度：1ppm/10ppm 多元素混合標(biāo)液，10 次重復(fù) RSD≤0.5%；

· 長(zhǎng)時(shí)間穩(wěn)定性 RSD＜1.0%；典型元素檢出限可達(dá) 0.1μg/L。

五、在高純金 GB/T25934.1 標(biāo)準(zhǔn)檢測(cè)中的應(yīng)用說(shuō)明

按照 GB/T25934.1-2010 標(biāo)準(zhǔn)流程，高純金試樣經(jīng)混合酸消解、乙酸乙酯萃取分離除去金基體，合并水相后濃縮定容，得到待測(cè)試液。將試液導(dǎo)入 MICS ICP-OES，儀器測(cè)量各雜質(zhì)元素對(duì)應(yīng)譜線強(qiáng)度，軟件扣除空白，調(diào)用工作曲線得到待測(cè)元素濃度，代入標(biāo)準(zhǔn)公式計(jì)算雜質(zhì)元素質(zhì)量分?jǐn)?shù)，結(jié)果可直接導(dǎo)出，完成銀、鋁、砷、鉍、鎘、鉻、銅、鐵、銥、鎂、錳、鎳、鉛、鈀、鉑、銠、銻、硒、碲、鈦、鋅多元素測(cè)定。

備注：儀器僅提供光譜檢測(cè)能力，樣品前處理（酸溶、乙酸乙酯萃取分離等）需要實(shí)驗(yàn)室按照國(guó)標(biāo)方法完成；本文參數(shù)僅作科普參考，最終交付標(biāo)準(zhǔn)以采購(gòu)合同為準(zhǔn)。

六、適用行業(yè)與應(yīng)用方向

1. 黃金冶煉、貴金屬精煉企業(yè)：高純金出廠雜質(zhì)質(zhì)控檢測(cè)；

2. 計(jì)量院、質(zhì)檢院、第三方貴金屬檢測(cè)實(shí)驗(yàn)室：依據(jù) GB/T25934 系列標(biāo)準(zhǔn)開(kāi)展高純金檢測(cè)；

3. 造幣、有色金屬研究院：貴金屬新材料研發(fā)分析；

4. 半導(dǎo)體、電子材料企業(yè)：高純金原料痕量雜質(zhì)驗(yàn)收分析。

七、結(jié)語(yǔ)

高純金的痕量雜質(zhì)檢測(cè)對(duì)儀器靈敏度、抗干擾能力、多元素同步分析能力提出嚴(yán)苛要求。深圳市天創(chuàng)美科技 MICS 全譜直讀 ICP-OES 電感耦合等離子體發(fā)射光譜儀，硬件性能、軟件功能可以很好匹配 GB/T25934.1-2010 乙酸乙酯萃取分離-ICP 光譜法的檢測(cè)儀器需求，幫助貴金屬分析實(shí)驗(yàn)室高效、穩(wěn)定完成高純金中二十余種雜質(zhì)元素定量分析，同時(shí)可兼顧地質(zhì)、環(huán)境、化工等多領(lǐng)域無(wú)機(jī)元素檢測(cè)，實(shí)現(xiàn)一機(jī)多用。

深圳市天創(chuàng)美科技有限公司廠家直供：電感耦合等離子體發(fā)射光譜儀(ICP-OES)適用于高純金化學(xué)分析方法：乙酸乙酯萃取分離-ICP-OES法測(cè)定高純金中雜質(zhì)元素的含量 高純金乙酸乙酯萃取 ICP-OES 雜質(zhì)元素測(cè)定儀 高純金化學(xué)分析ICP-OES 萃取法測(cè)雜質(zhì)設(shè)備乙酸乙酯萃取分離ICP-OES測(cè)定高純金中雜質(zhì)元素儀器 ICP-OES法測(cè)定高純金中雜質(zhì)元素 萃取分離 高純金乙酸乙酯萃取分離電感耦合等離子體發(fā)射光譜法 雜質(zhì)測(cè)定儀  萃取分離- ICP-OES 法檢測(cè)高純金中痕量雜質(zhì)元素儀器 高純金雜質(zhì)元素含量檢測(cè)乙酸乙酯萃取前處理 ICP-OES設(shè)備 高純金溶劑萃取 - ICP-OES 痕量雜質(zhì)分析儀 高純金化學(xué)分析方法 ICP-OES 法測(cè)定痕量雜質(zhì) 貴金屬高純金雜質(zhì)元素ICP光譜檢測(cè)儀 乙酸乙酯萃取分離測(cè)定高純金屬中雜質(zhì)元素儀 高純金 痕量元素 萃取分離 - ICP 光譜分析儀 高純金化學(xué)分析方法 溶劑萃取分離 - 電感耦合等離子體發(fā)射光譜法測(cè)定雜質(zhì)元素含量機(jī)器 乙酸乙酯萃取分離 - ICP-OES 法測(cè)定高純金中多種雜質(zhì)元素含量儀器 高純金中雜質(zhì)元素的測(cè)定 乙酸乙酯萃取分離 - ICP-OES 法 高純金里面雜質(zhì)元素 ICP-OES 檢測(cè)方法 乙酸乙酯萃取分離貴金屬雜質(zhì) ICP-OES 分析儀 ICP-OES 測(cè)定高純金痕量雜質(zhì)前處理 乙酸乙酯萃取方法

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